Сектор газофазного осаждения материалов

Цели и задачи сектора:

 

Руководитель:

        к.ф.-м.н. Корнилов Николай Владимирович

Сотрудники:

  • Нищук Сергей Геннадьевич, научный сотрудник
  • Тетерук Дмитрий Владимирович, аспирант

Приборы:
 
Ростовой комплекс монокристаллических алмазных пленок MPA-CVD BJS150-PLASSYS, BESTEK SAS (Франция)

Осаждение поликристаллических и эпитаксиальных монокристаллических алмазных пленок. Толщины отделенных поликристаллических пленок от 15 до 500 мкм. Толщины эпитаксиальных монокристаллических пленок от нескольких микрометров до нескольких миллиметров. Уровень примесей в сверхчистых монокристаллических пленках менее 1 ppb. Эпитаксиальные монокристаллические пленки допированные бором и азотом. Быстрый рост толстых эпитаксиальных монокристаллических пленок в рабочей атмосфере с добавлением азота - скорости роста до 60 мкм/час.

Начальный вакуум: 10-7 мбар.

Микроволновый генератор: 6 кВт, 2.45 ГГц.

Температура подложки: 500 – 1300 °С.

Размеры подложки: диаметром до 50 мм.

Рабочее давление: до 250 мбар.

Количество высокочистых газовых линий: 7.